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出版年 | 標題 | 作者 | 系所 |
---|---|---|---|
2013 | 考量極紫外光閃焰及化學機械研磨之電路擺置 Simultaneous EUV Flare- and CMP-Aware Placement | Chi-Yuan Liu; 留啟原 | 電子工程學研究所 |
探索
系所
- 1 電子工程學研究所
學位
- 1 碩士
指導教授
- 1 張耀文
關鍵字
- 1 physical design,extreme ultraviol...
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- 1 實體設計,極紫外光微影
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- 1 實體設計,極紫外光微影,閃焰,化學機械研磨,可製造性
- 1 實體設計,極紫外光微影,閃焰,化學機械研磨,可製造性,擺置
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出版年
- 1 2013
全文授權
- 1 有償授權
全文
- 1 true