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出版年 | 標題 | 作者 | 系所 |
---|---|---|---|
2017 | 基於可繞性與光罩製造之下世代微影可製造性最佳化 Manufacturability Considering Routability and Mask-Fabrication Optimization for Next Generation Lithography | Zhi-Wen Lin; 林植文 | 電子工程學研究所 |
2013 | 針對次22奈米技術之微影最佳化 Lithography Optimization for Sub-22 Nanometer Technologies | Shao-Yun Fang; 方劭云 | 電子工程學研究所 |
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系所
- 2 電子工程學研究所
指導教授
- 2 張耀文
關鍵字
- 2 physical design
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- 2 實體設計,製造可行性設計
- 2 實體設計,製造可行性設計,多圖案微影技術
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