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出版年 | 標題 | 作者 | 系所 |
---|---|---|---|
2019 | 考量極紫外光閃焰及自對準雙圖案微影技術之繞線 Flare-Aware Routing for EUVL with Self-Aligned Double Patterning | Bo-Ling Chen; 陳柏霖 | 電子工程學研究所 |
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系所
- 1 電子工程學研究所
學位
- 1 碩士
指導教授
關鍵字
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- 1 實體設計,製造可行性設計
- 1 實體設計,製造可行性設計,極紫外光
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- 1 實體設計,製造可行性設計,極紫外光,閃焰效應,自對準雙圖案微影技術
- 1 實體設計,製造可行性設計,極紫外光,閃焰效應,自對準雙圖案微影技術,繞線
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出版年
- 1 2019
全文授權
- 1 有償授權
全文
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