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出版年 | 標題 | 作者 | 系所 |
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2013 | 具有微縮化等效氧化層厚度高介電材料於鍺通道電晶體與金屬-氧化層-金屬電容之研究 Study of Ge channel MOSFETs and MIM capacitors with scaled equivalent oxide thickness using high-κ dielectric materials | Cheng-Ming Lin; 林政明 | 電子工程學研究所 |