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| 出版年 | 標題 | 作者 | 系所 |
|---|---|---|---|
| 2022 | 利用原子層沉積技術成長高介電常數介電層於二硫化鎢及高定向熱解石墨之成核工程 Nucleation Engineering for Atomic Layer Deposition of High-K Gate Dielectric on WS2 and HOPG | JU-YU HOO; 胡祖禹 | 材料科學與工程學研究所 |
| 出版年 | 標題 | 作者 | 系所 |
|---|---|---|---|
| 2022 | 利用原子層沉積技術成長高介電常數介電層於二硫化鎢及高定向熱解石墨之成核工程 Nucleation Engineering for Atomic Layer Deposition of High-K Gate Dielectric on WS2 and HOPG | JU-YU HOO; 胡祖禹 | 材料科學與工程學研究所 |