瀏覽 的方式: 作者 林星佑
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出版年 | 標題 | 作者 | 系所 |
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2014 | 以硝酸氧化備製中堆疊高介電常數氧化鉿閘極介電層之金氧半電容元件特性研究 Investigation of HfO2 High-k Gate Dielectrics in Tandem Structure Fabricated by Nitric Acid Oxidation for MOS Devices | Xing-You Lin; 林星佑 | 電子工程學研究所 |